旋涂機

所屬分類：旋涂機

表面改性

等離子清洗機紫外臭氧清洗機

表面去膠

等離子去膠機

表面刻蝕

等離子刻蝕機

表面涂層

旋涂機烤膠機濺射鍍膜機閃蒸成膜儀

產品參數

CIF推出的旋涂機系列產品轉速穩定、啟動迅速，旋涂均勻，操作簡單，結構緊湊實用，為實驗室提供了理想的解決方案。

產品詳情

旋涂機原理：

旋涂機（spin coater）是一種薄膜制備設備。在高速旋轉的基片上，滴注各類膠液，在離心力作用下，使膠液均勻地涂覆在基片表面上形成均勻的薄膜。廣泛應用于微電子、半導體、新能源、化工材料、生物材料、光學，硅片、載玻片，晶片，基片，ITO 導電玻璃等工藝制版表面涂覆等。

產品特點

u采用閉環控制伺服電機，數字式增速信號反饋，速勻準確，壽命長，保證勻膠均勻。

u7寸全彩中英文互動操作觸摸屏，智能程序化可編程操控顯示，標配10個勻膠梯度階段（速度和時間梯度設置），可選配20個可編程程序，每個程序下可設置10個勻膠梯度階段，最多100個階段。

u內置水平校準裝置，大限度的保證旋涂均勻，可對大小不同規格的基片進行旋涂。

u多重安全保護

電磁安全開關，蓋子打開卡盤停止，保證安全；

蓋子自鎖功能，防止飛片蓋彈開傷人；

雙重安全上蓋，聚四氟嵌鑲鋼化玻璃，避免單一玻璃或者亞克力上蓋飛片傷人，大限度保證實驗人員安全。

u樣品托盤卡口和樣品托盤之間三重密封安全保護，有效降低電機進膠的風險。

u一機兩用，根據不同樣品可選真空吸盤和非真空卡盤兩種旋涂方式。

u符合人體功能學的水平取放樣品旋涂托盤設計，取放樣品更方便。

u不銹鋼噴塑涂層旋涂殼體，旋涂腔體采用PTFE材料。旋涂托盤采用聚丙烯（NPP-H）材料，耐酸堿防腐蝕，保證儀器在苛刻條件下仍能正常運行。

u上下雙腔體設計，較大的上腔體便于擦拭去除膠液，錐形下腔體結構設計便于收集膠液，并帶廢膠收集裝置。

u可選氮氣吹掃、氮氣保護，自動滴膠或簡易滴膠裝置，提供更多的操作便利性。

u適用硅片、玻璃、石英、金屬、GaAs，GaN，InP 等多種材料。